基本信息
| 标准名称： | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 |
| 英文名称： | Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials |
| 中标分类： | 仪器、仪表 >> 光学仪器 >> 电子光学与其他物理光学仪器 |
| ICS分类： | 化工技术 >> 分析化学 >> 化学分析 |
| 发布部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： | 2006-03-27 |
| 实施日期： | 2006-11-01 |
| 首发日期： | 2006-03-27 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 提出单位： | 全国微束分析标准化技术委员会 |
| 归口单位： | 全国微束分析标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 清华大学电子工程系 |
| 起草人： | 查良镇、陈旭、王光普、黄雁华、黄天斌、刘林、葛欣、桂东 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2006-11-01 |
| 页数： | 平装16开 页数：20, 字数：32千字 |
| 计划单号： | 20010510-T-469 |
适用范围
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。
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